PURIFICADOR PARA MÁQUINA GALVANOMÉTRICA 100W

PURIFICADOR DE FUMACA INDUSTRIAL PARA LASER 100W GALVANOMETRICO (3 ESTAGIOS)

O PURIFICADOR PARA MAQUINA GALVANOMETRICA 100 W e um sistema de filtragem de ar robusto, essencial para garantir um ambiente de trabalho seguro e em conformidade com as normas ambientais. Projetado especificamente para absorver e purificar a fumaca, o po e os gases toxicos liberados durante os processos de gravacao e marcacao a laser.

Este equipamento utiliza um sistema de filtragem de tres estagios que garante uma taxa de purificacao excepcional:

* Ar Purificado de Alta Qualidade: O ar de saida e 300 - 500 vezes mais limpo do que o ar ambiente, minimizando os danos ambientais e a saude humana.
* Controle de Qualidade do Ar: Purifica o ar, beneficiando diretamente a saude dos colaboradores e moradores do entorno e reduzindo a ocorrencia de doencas ocupacionais.

### Especificacoes Tecnicas e Beneficios

| Caracteristica | Detalhe Tecnico / Beneficio |
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| Aplicacao | Maquinas a Laser Galvanometricas (Galvo) e CO2 de ate 100 W |
| Eficiencia de Filtragem | Particulas de 0.3 μm podem ser filtradas em ate 99.97% |
| Nivel de Ruido | Baixo Ruido (45 - 60 dB), nao afeta funcionarios ou residentes |
| Consumo | Baixo consumo de energia e economia de energia |
| Portabilidade | Flexivel e conveniente de mover, adaptavel a mudancas operacionais |
| Ajuste | Potencia de succao ajustavel para se adequar a diferentes estacoes e cargas de trabalho |

### Sistema de Filtragem de 3 Estagios (Nucleo do Equipamento)

O sistema interno do purificador absorve fumaca e gases residuais organicos para atingir a remocao de fumaca, poeira e odor, composto por:

1.  Pre-Filtro (F7):
    * Utiliza algodao de filtro grosso de grau F7 com grande capacidade de retencao de poeira.
    * Primeira absorcao de particulas maiores de poeira e fumaca, protegendo a camada principal.
2.  Filtro Principal (HEPA):
    * Composto por filtro HEPA de alta eficiencia.
    * Taxa de purificacao de particulas de 0.3 μm atinge 99.97%.
3.  Camada de Adsorcao Quimica (Pos-Filtro):
    * Composta por peneiras moleculares, carvao ativado e oxidantes.
    * Responsavel por decompor e adsorver gases residuais organicos (gases nocivos), eliminando odores.